Scrubber TPU per Fluoruri A quattro stadi di trattamento, operano su gas da reattori CVD (AP-, LP-, PE-) contenenti composti fluorurati come NF3, XeF2, Freon ..., più Idridi metallici insolubili: tipici sono i processi di etching selettivo. Come per gli scrubber EPI, dove vengono garantite emissioni TWA inferiori a 20 ppb, queste unità assicurano la costanza della depressione nelle linee di exhaust dai reattori entro variazioni del flusso gassoso in ingresso dallo 0 al 100%. Nel primo stadio il gas passa in una torre a piatti per la dissociazione iniziale di Silani ed il preassorbimento dei dopanti; i cristalli formati sono evacuati dallo scarico di troppopieno della vasca di base, mentre i gas passano nello stadio di termodistruzione. Qui il gas incontra un primo riscaldamento a 250 ÷ 400 °C, quindi il cracking prosegue a 400 ÷ 700 °C; queste fasi sono programmabili indipendentemente fra loro sia come inserzione che come temperatura in funzione del tipo e portata dei gas in entrata. Il terzo stadio è una torretta a pacco di riempimento, dove gli Idridi poco solubili e l'Acido Cloridrico vengono assorbiti: resta un flusso gassoso umido che viene trascinato nel quarto stadio.Quest'ultimo è costituito da un eiettore Venturi alimentato dalla pompa di riciclo soluzione: l'eiettore abbatte i rimanenti contaminanti soluti e spinge il gas in uscita.

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